問答題簡(jiǎn)述1990年代CMOS工藝技術(shù)特征：特征尺寸、晶圓尺寸、襯底、隔離、源漏、柵極材料、光刻光源、曝光方式（光刻機(jī)）、刻蝕、互連材料及方式等。
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CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
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題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題