顯影也應具有選擇性,高的顯影選擇性比意味著顯影液與曝光的光刻膠反應得快。 要求比例低。
最新試題
下面哪些元素屬于半徑較小的雜質原子?()
消除鳥嘴效應的方法有()。
進行光刻工藝前的清洗步驟是()。
下面哪個選項不是集成電路工藝用化學氣體質量的指標?()
影響封裝芯片特性的溫度有()。
如下哪個選項不是半導體器件制備過程中的主要污染物?()
鳥嘴效應造成的不良影響有()。
IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎是()。
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
刻蝕過程中聚合物形成的來源有()。