硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項？（）

注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)？（）

多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。

厚膜電阻的成分，一是導(dǎo)體顆粒，二是（）。

常壓的硅外延方法有（）。

化學(xué)機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）

互連工藝中AL的制備可選用（）。

鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。

摻雜后退火時間一般在（）。

下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進行晶圓r的外觀檢查，是否有出現(xiàn)廢品？（）