問答題

【簡答題】解釋曝光后烘烤的目的。PEB（曝光后烘烤）烘烤過度和不足會產(chǎn)生什么問題？

答案：

目的：降低駐波效應(yīng)
不足：無法消除駐波效應(yīng)，影響分辨率。
過度：造成光刻膠的聚合作用，影響顯影過程，導(dǎo)致圖形轉(zhuǎn)移失敗。

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