直拉法生長單晶硅拉晶過程有幾個主要階段？（）

下列是晶體的是（）。 

下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量（）

在通常情況下，GaN呈（）型結(jié)構(gòu)。

在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動勢的現(xiàn)象稱（）

屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）

改良西門子法的顯著特點不包括（）

如在半導體的禁帶中有一個深雜質(zhì)能級位于禁帶中央，則它對電子的俘獲率（）空穴的俘獲率。

鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括（）

只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是（）。