下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量（）

下列是晶體的是（）。 

屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）

在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動勢的現(xiàn)象稱（）

多晶硅的生產(chǎn)方法主要包含：（）1）冶金法2）硅烷法3）重?fù)焦鑿U料提純法4）西門子改良法5）SiCl4法6）氣液沉淀法7）流化床法

鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括（）

制約鑄造多晶硅材料少子壽命的主要因素不包括（）

改良西門子法的顯著特點(diǎn)不包括（）

懸浮區(qū)熔的優(yōu)點(diǎn)不包括（）

載流子的擴(kuò)散運(yùn)動產(chǎn)生擴(kuò)散電流，漂移運(yùn)動產(chǎn)生（）電流。