微電子學(xué)章節(jié)練習(xí)(2019.12.02)

來源：考試資料網(wǎng)
參考答案：投影掩膜版它包括了要在硅片上重復(fù)生成的圖形。這種圖形可能僅包含一個(gè)管芯，也可能是幾個(gè)光掩膜版通常稱為掩膜版，包含了對(duì)于整...
參考答案：硅平面晶體管或集成電路掩模版的制作，一般地講，要經(jīng)過原圖繪制（包括繪總圖和刻分圖）、初縮、精縮兼分步重復(fù)、復(fù)印陰版和復(fù)印...
參考答案：第一步是晶核形成：成束的穩(wěn)定小晶核形成，這一步發(fā)生在起初少量原子或分子反應(yīng)物結(jié)合起來，形成附著在硅片表面的分離的小膜層的...
參考答案：該區(qū)的少子擴(kuò)散長度；線性分布
參考答案：挑戰(zhàn)：
①高深寬比的金屬層間接觸孔需要點(diǎn)擊一層銅阻擋層以防止銅擴(kuò)散，這個(gè)阻擋層需要良好的側(cè)壁和底層階梯覆蓋、優(yōu)...
參考答案：可使裸露的硅片表面生長一層新的阻擋氧化層；高溫使得雜質(zhì)向硅中移動(dòng)；可使注入引入的損傷得到修復(fù)；使雜質(zhì)原子與硅原子間的共價(jià)...
參考答案：為了查找光刻膠中成形圖形的缺陷，鑒別并除去有缺陷的硅片，用來檢查光刻工藝的好壞，為光學(xué)光刻工藝生產(chǎn)人員提供用于糾正的信息...