濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

下面哪些元素屬于半徑較小的雜質(zhì)原子？（）

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

摻雜后退火時(shí)間一般在（）。

硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項(xiàng)？（）

鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。

新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）

光刻工藝的特點(diǎn)包括（）。

刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。