化學氣相淀積(cvd) 電鍍 物理氣相淀積(pvd或濺射) 蒸發(fā) 旋涂方法
最新試題
進行溝槽填充常用的金屬材料是()。
CE定律發(fā)展面臨的問題包括()。
下面哪個選項不是集成電路工藝用化學氣體質(zhì)量的指標?()
消除鳥嘴效應的方法有()。
光刻工藝的設備核心是()。
目前制備SOI材料的主流技術有幾種?()
多層陶瓷基板多層化的方法包括()。
金屬化中可選用的金屬材料有()。
當許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層,開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為()。
濕氧氧化采用的氧化水溫是()。