問(wèn)答題陳述分辨率公式。影響光刻分辨率的三個(gè)參數(shù)？
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下面哪個(gè)選項(xiàng)不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標(biāo)？（）
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光刻工藝對(duì)準(zhǔn)誤差包括（）。
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多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。
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硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。
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