問答題比較投影掩模版和光學掩模版有何異同?說明采用什么技術形成投影掩模版上的圖形?
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
最新試題
試述兩種傳輸線電感,比較其優(yōu)缺點。
題型:問答題
集成電路電阻可以通過()產生。
題型:多項選擇題
利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構成一個MOS管,已知Cox=5×10-4pF/μm2,估算柵極電容。
題型:問答題
什么是電阻率?它的單位是什么(國際標準單位制)?
題型:問答題
規(guī)定版圖幾何設計規(guī)則的意義是什么?
題型:問答題
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),求M4的漏電流。
題型:問答題
材料根據流經材電流的不同可分為三類()。
題型:多項選擇題
20世紀上半葉對半導體產業(yè)量展做出貢獻的4種不同產業(yè)主要是()。
題型:多項選擇題
目前集成電路版圖設計的主流工具有哪些?
題型:問答題
MOS器件存在哪些二階效應?
題型:問答題