最新試題
版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么?
題型:問答題
圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個NMOS管,M1的W/L=12μm/6μm,M2的W/L=4μm/2μm,其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線,請畫出Id2的大致變化,并說明Id1和Id2有什么不同,并解釋不同的主要原因。
題型:問答題
集成電容主要有幾種結(jié)構(gòu)?
題型:問答題
試用電導率為102/(Ω·cm),厚1μm的材料設計1kΩ的電阻,設電阻寬1μm,求其長。
題型:問答題
什么是電阻率?它的單位是什么(國際標準單位制)?
題型:問答題
把半導體級硅的多晶硅塊,轉(zhuǎn)換成一塊大的單晶硅的過程,稱作()。生長后的單晶硅被稱為()。
題型:單項選擇題
晶體管的名字取自于()和()兩詞。
題型:多項選擇題
什么是MOS器件的體效應?
題型:問答題
設計一個CMOS差分放大器電路,寫出其對應的SPICE描述語句并作差模電流-電壓特性分析。
題型:問答題
從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導體器件所需純度的SGS要經(jīng)過()等步驟。
題型:多項選擇題