下列是晶體的是（）。 

下列選項中，對從石英到單晶硅的工藝流程是（）

只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是（）。 

PN結(jié)的基本特性是（）

雜質(zhì)半導(dǎo)體中的載流子輸運(yùn)過程的散射機(jī)構(gòu)中，當(dāng)溫度升高時，電離雜質(zhì)散射的概率和晶格振動聲子的散射概率的變化分別是（）

在通常情況下，GaN呈（）型結(jié)構(gòu)。

如在半導(dǎo)體的禁帶中有一個深雜質(zhì)能級位于禁帶中央，則它對電子的俘獲率（）空穴的俘獲率。

那個不是影響直拉單晶硅的電阻率均勻性的因素（）

一塊半導(dǎo)體壽命τ=15µs，光照在材料中會產(chǎn)生非平衡載流子，光照突然停止30µs后，其中非平衡載流子將衰減到原來的（）。

可用作硅片的研磨材料是（）