新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。

消除鳥嘴效應(yīng)的方法有（）。

碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管是未來(lái)晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。

三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無(wú)各種廢品。

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無(wú)關(guān)？（）

刻蝕過(guò)程中聚合物形成的來(lái)源有（）。

多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。