集成電路工藝原理章節(jié)練習(xí)(2018.12.02)

來源：考試資料網(wǎng)
參考答案：測(cè)試費(fèi)用高：高測(cè)試費(fèi)用提醒設(shè)計(jì)者在做設(shè)計(jì)決策時(shí)必須仔細(xì)考慮測(cè)試問題。一種新設(shè)計(jì)的MCM所要進(jìn)行的測(cè)試比一種成熟的MCM測(cè)...
參考答案：如果沒有LDD形成，在晶體管正常工作時(shí)會(huì)在結(jié)和溝道區(qū)之間形成高電場(chǎng)，電子在從源區(qū)向漏區(qū)移動(dòng)的過程中，將受此電場(chǎng)加速成高能...
4.名詞解釋飽和蒸氣壓
參考答案：

在一定的溫度下，真空室內(nèi)蒸發(fā)物質(zhì)的蒸氣與固態(tài)或液態(tài)平衡時(shí)所表現(xiàn)出來的壓力。

5.名詞解釋光刻三要素
參考答案：

光刻機(jī)，光刻板（掩模板），光刻膠。

參考答案：實(shí)現(xiàn)均勻摻雜的同時(shí)并且復(fù)制仔晶的結(jié)構(gòu)，得到合適的硅錠直徑并且限制雜質(zhì)引入到硅中
參考答案：檢測(cè)：確定被測(cè)器件（DUT）是否具有或者不具有某些故障。
診斷：識(shí)別表現(xiàn)于DUT的特定故障。
器件特...
10.名詞解釋Fabless
參考答案：

IC設(shè)計(jì)公司，只設(shè)計(jì)不生產(chǎn)。