與IIW試塊相比，CSKⅠA試塊的優(yōu)點(diǎn)之一是可以測(cè)定斜探頭的分辨力。

底波高度法經(jīng)常作為缺陷回波法的一種輔助手段。

檢測(cè)面準(zhǔn)備的目的是為了保證良好的聲耦合。

液浸法的優(yōu)點(diǎn)之一是聲耦合穩(wěn)定，檢測(cè)結(jié)果重復(fù)性好。

單探頭法是反射法，雙探頭法都是穿透法。

利用IIW試塊上的φ50孔兩側(cè)面的距離，只能測(cè)定直探頭盲區(qū)的大致范圍。

所謂“幻影回波”，是由于探傷頻率過高或材料晶粒粗大引起的。

軟保護(hù)膜探頭可減少粗糙表面對(duì)探傷的影響。

標(biāo)準(zhǔn)試塊的材質(zhì)應(yīng)盡可能與被檢工件相同或相近。

測(cè)定“始脈沖寬度”時(shí)，應(yīng)將儀器的靈敏度調(diào)至最大。