問(wèn)答題簡(jiǎn)述如何選擇陶瓷的成方法?
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硅片拋光在原理上不可分為()
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最有效的復(fù)合中心能級(jí)位置在Ei附近;最有利陷阱作用的能級(jí)位置在()附近,常見的是少子陷阱。
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屬于晶體缺陷中面缺陷的是()
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表面態(tài)中性能級(jí)位于費(fèi)米能級(jí)以上時(shí),該表面態(tài)為();
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原子晶體中的原子與原子之間的鍵能隨原子間距的而迅速()
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下列哪個(gè)不是單晶常用的晶向()
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下列哪一個(gè)遷移率的測(cè)量方法適合于低阻材料少子遷移率測(cè)量()
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鑄造多晶硅中的氧主要來(lái)源不包括()
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