判斷題傳統(tǒng)的0.25μm工藝以上的器件隔離方法是硅的局部氧化。
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把半導(dǎo)體級硅的多晶硅塊,轉(zhuǎn)換成一塊大的單晶硅的過程,稱作()。生長后的單晶硅被稱為()。
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