問答題簡(jiǎn)述沉積多晶硅采用什么CVD工具?摻雜的Poly-Si的主要用途。寫出摻雜的Poly-Si做柵電極的6個(gè)原因。
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比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路,試分析兩者存在差異的原因。
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為提高CMOS集成電路的抗自鎖能力,可在版圖設(shè)計(jì)上采取哪些措施?
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什么是無源電阻?什么是有源電阻?舉例說明。
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什么是MOS器件的體效應(yīng)?
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MOS器件存在哪些二階效應(yīng)?
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什么是電阻率?它的單位是什么(國際標(biāo)準(zhǔn)單位制)?
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利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個(gè)MOS管,已知Cox=5×10-4pF/μm2,估算柵極電容。
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從設(shè)計(jì)的觀點(diǎn)出發(fā),版圖設(shè)計(jì)規(guī)則應(yīng)包括哪些部分?
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MOS器件按比例縮小后對(duì)器件特性有什么影響?
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