編寫DRC版圖驗(yàn)證文件的主要依據(jù)是什么？

從天然硅中獲得達(dá)到生產(chǎn)半導(dǎo)體器件所需純度的SGS要經(jīng)過(guò)（）等步驟。

在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，求M4的漏電流。

MOS場(chǎng)效應(yīng)管（MOSFET）在20世紀(jì)70年代得到了廣泛的接受，從那時(shí)起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類（）和（）。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來(lái)區(qū)別。

材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類（）。

從設(shè)計(jì)的觀點(diǎn)出發(fā)，版圖設(shè)計(jì)規(guī)則應(yīng)包括哪些部分？

在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，畫出Vx從一個(gè)大的正值下降時(shí)Ix的草圖。

什么是MOS器件的體效應(yīng)？

版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？

半導(dǎo)體工藝技術(shù)中，器件互連材料通常包括（）等。