IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎是（）。

消除鳥嘴效應的方法有（）。

化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。

多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。

鳥嘴效應造成的不良影響有（）。

光刻工藝的特點包括（）。

光刻工藝的設備核心是（）。

碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。

摻雜后，退火的目的是（）。