<th id="y8aoy"></th>

<object id="y8aoy"></object>

<strike id="y8aoy"><abbr id="y8aoy"></abbr></strike>

<th id="y8aoy"><blockquote id="y8aoy"></blockquote></th>

<sup id="y8aoy"><abbr id="y8aoy"></abbr></sup>

名詞解釋

過刻蝕

答案：刻蝕薄膜時，晶圓內(nèi)的刻蝕速率和薄膜厚度并不完全均勻，主刻蝕后，會有少部分的薄膜留下，移除剩余薄膜的過程稱為過刻蝕。

你可能感興趣的試題

負載效應

答案：等離子體圖形化刻蝕過程中，刻蝕圖形將影響刻蝕速率和刻蝕輪廓。

【簡答題】簡述IC芯片工藝過程中包括的刻蝕工藝過程

答案：（1）圖形化和整面全*區(qū)刻蝕。
（2）單晶硅刻蝕用于淺槽隔離。
（3）多晶硅刻蝕用于界定柵和局部互連...

<sup id="uwyom"></sup>