問(wèn)答題

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答案: (1)圖形化和整面全*區(qū)刻蝕。
(2)單晶硅刻蝕用于淺槽隔離。
(3)多晶硅刻蝕用于界定柵和局部互連...
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通道效應(yīng)

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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述離子注入設(shè)備的主要組成部分

答案: 氣體系統(tǒng)、電機(jī)系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、射線系統(tǒng)、電荷中性化系統(tǒng)、晶圓處理系統(tǒng)
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