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問答題

【簡答題】半導(dǎo)體工藝中常用的三種CVD反應(yīng)器類型

答案： APCVD：常壓化學(xué)氣相淀積
LPCVD: 低壓化學(xué)氣相淀積 &e...

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過刻蝕

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負(fù)載效應(yīng)

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