可用作硅片的研磨材料是（）

PN結(jié)的基本特性是（）

最有效的復(fù)合中心能級位置在Ei附近；最有利陷阱作用的能級位置在（）附近，常見的是少子陷阱。

如果雜質(zhì)既有施主的作用又有受主的作用，則這種雜質(zhì)稱為（）。

屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）

表面態(tài)中性能級位于費米能級以上時，該表面態(tài)為（）；

只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是（）。 

把磷化鎵在氮氣氛中退火，會有氮取代部分的磷，這會在磷化鎵中出現(xiàn)（）。

硅片拋光在原理上不可分為（）

直拉法生長單晶硅拉晶過程有幾個主要階段？（）