單項(xiàng)選擇題當(dāng)待測樣品基體復(fù)雜時(shí),使用ICPMS方法分析常用的工作曲線方法是()

A.標(biāo)準(zhǔn)曲線法
B.標(biāo)準(zhǔn)加入法
C.內(nèi)標(biāo)法
D.單點(diǎn)校正法


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1.單項(xiàng)選擇題下列元素不能在四級桿ICPMS中區(qū)分出來的是()

A.10B和11B
B.204Hg和204Pb
C.204Pb和206Pb
D.27Al和29Si

2.單項(xiàng)選擇題XRF法分析Ti~U的元素,常用的晶體是()

A.GE111
B.TAP
C.NaCl
D.LiF

3.單項(xiàng)選擇題冶金企業(yè)通用的X射線熒光光譜儀采用的是()作為X射線產(chǎn)生源。

A.用高能電子轟擊金屬靶
B.利用同位素源衰變過程產(chǎn)生的X射線
C.將初級X射線照射以產(chǎn)生二次X射線熒光
D.同步輻射加速器

4.單項(xiàng)選擇題X射線熒光光譜儀中,初級X射線濾光片一般安裝在()

A.檢測器之前
B.樣品和準(zhǔn)直器之間
C.樣品和晶體之間
D.X光管和樣品之間