A.Sp(FSZ)=Scp/OUF=Scp/Sc
B.Sp(FSZ)=OUF/Scp=Sc/Scp
C.Sc=Scp/OUF=Scp/Sp
D.Sc=OUF/Scp=Sp/Scp
E.OUF=(Sc+Sp)/Scp
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A.照射野越大,影響越大
B.電子束射程越短,影響越大
C.低能時(shí),影響較大
D.當(dāng)照射野的直徑大于電子束射程的1/2時(shí),影響較小
E.當(dāng)照射野的直徑大于電子束射程的2/3時(shí),影響較大
A.原射線的離軸比
B.射野的邊界因子
C.射野的對(duì)稱性
D.射野的平坦度
E.射野的均質(zhì)性
A.一維物理楔形板
B.動(dòng)態(tài)楔形板
C.多葉準(zhǔn)直器動(dòng)態(tài)掃描
D.多葉準(zhǔn)直器靜態(tài)掃描
E.筆形束電磁掃描
A.體積較大
B.對(duì)側(cè)向散射反應(yīng)不靈敏
C.受“熱效應(yīng)”影響大
D.易受環(huán)境及溫度影響
E.受照射野大小影響
A.10
B.12
C.14
D.16
E.18
最新試題
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
實(shí)際患者治療時(shí),無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
源皮距越小,百分深度劑量越大。
等效射野指的是通過計(jì)算換算后的方形野。
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
低LET射線照射哺乳動(dòng)物細(xì)胞存活曲線在低劑量段有肩區(qū),提示()。