問答題

【簡答題】簡述濕法腐蝕相比干法刻蝕的優(yōu)點

答案:

(1)對材料具有高的選擇比
(2)不會對器件帶來等離子體損傷
(3)設(shè)備簡單

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【簡答題】簡述干法刻蝕的應(yīng)用

答案: 介質(zhì)——氧化物和氮化硅
硅——多晶硅柵和單晶硅槽
金...
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【簡答題】簡述負載和微負載效應(yīng)的概念

答案: 負載效應(yīng):要刻蝕硅片表面的大面積區(qū)域,則會耗盡刻蝕劑濃度使刻蝕速率慢下來;如果刻蝕的面積比較小,則刻蝕會快些
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