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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述負(fù)載和微負(fù)載效應(yīng)的概念
答案：
負(fù)載效應(yīng)：要刻蝕硅片表面的大面積區(qū)域，則會(huì)耗盡刻蝕劑濃度使刻蝕速率慢下來(lái)；如果刻蝕的面積比較小，則刻蝕會(huì)快些
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述刻蝕的概念及其基本目的
答案：
概念：用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過(guò)程
基本目的：在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩模圖形&e...
基本目的：在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩模圖形&e...
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述反射切口、駐波的概念、抗反射涂層的作用
答案：
反射切口：在刻蝕形成的垂直側(cè)墻表面，反射光入射到不需要曝光的光刻膠中就會(huì)形成反射切口
駐波：入射光與反射光發(fā)射...
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