問答題

【簡答題】離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點

答案： 溫度低，使用PR遮蔽層（擴散硬遮蔽層），非等向性摻雜輪廓，可獨立控制摻雜濃度和結深，批量及單晶圓工藝（擴散為單晶圓工藝）
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