磁粉檢測(cè)，所有的磁痕尺寸、數(shù)量和產(chǎn)生部位均應(yīng)記錄并圖示。

材料磁導(dǎo)率低（剩磁大）及直流磁化后，退磁磁場(chǎng)換向的次數(shù)（退磁頻率）應(yīng)較多，每次下降的磁場(chǎng)值應(yīng)較小，且每次停留的時(shí)間（周期）要略長(zhǎng)。

在工件內(nèi)部的剩磁，周向磁化要比縱向磁化大的多。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：檢測(cè)后加熱至600℃以上進(jìn)行熱處理的工件，一般可不進(jìn)行退磁。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的水?dāng)嘣囼?yàn)，主要是用來(lái)檢驗(yàn)水磁懸液對(duì)被檢表面的潤(rùn)濕性能，只有出現(xiàn)裸露的“水?dāng)唷北砻?，才可以開(kāi)始磁粉檢測(cè)。

采用濕法時(shí)，應(yīng)確認(rèn)整個(gè)檢測(cè)面被磁懸液濕潤(rùn)后，再施加磁懸液。

C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同，只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。

標(biāo)準(zhǔn)試塊主要用于檢驗(yàn)磁粉檢測(cè)的系統(tǒng)靈敏度，確定被檢工件的磁化規(guī)范。