A.遺傳資源是有形載體和無(wú)形信息的統(tǒng)一體
B.分布不均衡性主要表現(xiàn)在“時(shí)空”差異上，即遺傳資源往往是在特定時(shí)期內(nèi)存在于特定的地域內(nèi)
C.遺傳資源是無(wú)形信息和有形載體的復(fù)合體，其所承載的無(wú)形信息是可以再?gòu)?fù)制的
D.遺傳信息不可以脫離其有形載體而繼續(xù)存在，當(dāng)遺傳信息同篩選、研究、開發(fā)等活動(dòng)相結(jié)合時(shí)，就不可以成為新產(chǎn)品的來(lái)源
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A.假冒偽劣
B.違法責(zé)任
C.侵權(quán)責(zé)任
D.冒充責(zé)任
A.新穎性
B.特異性
C.一致性
D.穩(wěn)定性
A.轉(zhuǎn)讓權(quán)
B.許可權(quán)
C.標(biāo)記權(quán)
D.追償權(quán)
A.公開性
B.獨(dú)創(chuàng)性
C.獨(dú)占性
D.私有性
A.重大專項(xiàng)牽頭組織單位全面負(fù)責(zé)本重大專項(xiàng)集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)工作
B.各重大專項(xiàng)實(shí)施管理辦公室應(yīng)當(dāng)設(shè)立專門崗位、配備專門人員負(fù)責(zé)本重大專項(xiàng)集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)工作
C.不可以委托知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)機(jī)構(gòu)對(duì)本重大專項(xiàng)集成電路布圖設(shè)計(jì)戰(zhàn)略的制定和決策提供咨詢與服務(wù)
D.重大專項(xiàng)專職技術(shù)責(zé)任人負(fù)責(zé)組織開展集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)戰(zhàn)略分析，提出技術(shù)方向和集成方案設(shè)計(jì)中的集成電路布圖設(shè)計(jì)權(quán)策略建議，對(duì)成果產(chǎn)業(yè)化可能產(chǎn)生的集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)問(wèn)題進(jìn)行預(yù)測(cè)評(píng)估并提出對(duì)策建議
最新試題
根據(jù)《集成電路條例》的規(guī)定，下列屬于集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)法定撤銷情形的是（）。
在一項(xiàng)專利侵權(quán)糾紛中，甲公司以被告生產(chǎn)的發(fā)動(dòng)機(jī)關(guān)鍵技術(shù)落入其B、C兩項(xiàng)權(quán)利要求之中為由，要求被告承擔(dān)侵權(quán)責(zé)任，但未得到法院支持。此處，法院駁回甲公司主張的理由是基于（）。
在海外專利糾紛解決的過(guò)程中，對(duì)專利糾紛的處理結(jié)果或者企業(yè)的影響較大的關(guān)鍵環(huán)節(jié)為（）。
中國(guó)音樂(lè)著作權(quán)協(xié)會(huì)從事下列行為時(shí)可能被追究刑事責(zé)任的是（）。
下列關(guān)于商標(biāo)法的規(guī)定，正確的是（）。
下列針對(duì)侵犯著作權(quán)的行為說(shuō)法正確的是（）。
常見(jiàn)的核心專利分析方法有（）。
通常可以從以下哪些角度進(jìn)行品牌識(shí)別（）。
下列關(guān)于PCT國(guó)際專利申請(qǐng)說(shuō)法正確的有（）。
國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局設(shè)置集成電路布圖設(shè)計(jì)登記簿，需要登記集成電路布圖設(shè)計(jì)權(quán)利人的（）及其變更。