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問答題
【簡答題】光刻膠正膠和負膠的區(qū)別是什么？
答案：
正性光刻膠受光或紫外線照射后感光的部分發(fā)生光分解反應(yīng)，可溶于顯影液，未感光的部分顯影后仍然留在晶圓的表面，它一般適合做長...
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問答題
【簡答題】光刻的作用是什么？列舉兩種常用曝光方式。
答案：
光刻是集成電路加工過程中的重要工序，作用是把掩模版上的圖形轉(zhuǎn)換成晶圓上的器件結(jié)構(gòu)。
曝光方式：接觸式和非接觸式。
曝光方式：接觸式和非接觸式。
