問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】光刻過(guò)程需要哪八大步驟？每個(gè)步驟的作用？

答案：

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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述光刻的主要參數(shù)
答案： 在光刻工藝中，主要的參數(shù)有特征尺寸、分辨率、套準(zhǔn)精度和工藝寬容度等。
1. 特征尺寸
特征...
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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述光刻的目的？
答案： 光刻的主要目的是用來(lái)在不同的器件和電路表面形成所需的各種圖形。
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