問答題

【簡答題】試述 “鳥嘴”效應(yīng)是如何產(chǎn)生的？它對MOS器件有什么影響？

答案：通常，IC器件之間通過氧化去來隔離的，在局部氧化隔離工藝中，由于氧化過程中的滲透作用，造成了氧化區(qū)具有“鳥嘴形”。這種形...

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【簡答題】列舉兩種集成電路制造中的器件隔離結(jié)構(gòu)，并比較其優(yōu)缺點。

答案：兩種最常用的隔離結(jié)構(gòu)：局部氧化隔離法隔離（LOCOS）和淺溝槽隔離（STI）。
局部氧化隔離法會產(chǎn)生&ldqu...

【簡答題】IC制造中常采用什么方法形成金屬層？它的作用是什么？

答案：金屬層的形成主要采用物理汽相沉積（Pysical Vapor Deposition，簡稱PVD）技術(shù)...