A.源軸距
B.源皮距
C.射野中心軸
D.源瘤距
E.皮下
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A.1cm
B.1.5cm
C.2.5cm
D.0.5cm
E.2cm
A.臨床靶區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
B.腫瘤區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
C.治療區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
D.計(jì)劃靶區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
E.腫瘤區(qū)內(nèi)所接受的最大劑量
A.減少電離室桿效應(yīng)的影響
B.減少復(fù)合效應(yīng)的影響
C.減少漏電流
D.控制和減少電離室極化效應(yīng)
E.增加電離室的收集效率
A.主要使用多弧非共面聚焦照射技術(shù)
B.是一種特殊的全身外照射治療手段
C.可以是單次大劑量照射,也可以是分次照射
D.立體定位偏差應(yīng)小于±1mm,劑量偏差小于±5%
E.可以使用X射線,也可以使用γ射線、質(zhì)子束
A.步進(jìn)源系統(tǒng)的建立是以巴黎系統(tǒng)為基礎(chǔ)
B.布源規(guī)則不一定嚴(yán)格遵守巴黎系統(tǒng)
C.根據(jù)臨床靶區(qū)的幾何形狀確定放射源的排列放射和間距
D.放射源長(zhǎng)度可以與巴黎系統(tǒng)不同
E.采用優(yōu)化處理可消除高劑量區(qū)的存在
最新試題
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
對(duì)射野輸出劑量的檢測(cè)頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
實(shí)際患者治療時(shí),無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒有確定的射程。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是()。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。