A、附著成功率=成功完成附著與缺省EPS承載建立次數(shù)/開機(jī)總次數(shù)
B、附著成功率=成功完成附著次數(shù)/開機(jī)總次數(shù)
C、附著成功率=成功完成附著次數(shù)/附著請(qǐng)求總次數(shù)
D、附著成功率=成功完成附著與缺省EPS承載建立次數(shù)/附著請(qǐng)求總次數(shù)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A、PBCH
B、PCFICH
C、PHICH
D、PDCCH
A、TAI
B、ARP
C、GBR
D、AMBR
A、PBCH
B、PMCH
C、PDSCH
D、PHICH
A、400br />1200
B、600
C、800
A、TA List管理
B、IP地址分配
C、合法監(jiān)聽
D、上行和下行的承載綁定
最新試題
LTE無(wú)線基站智能關(guān)斷技術(shù)包含∶（）。
UE在TAlist范圍內(nèi)移動(dòng)時(shí)，不允許發(fā)起TAU流程。
某LTE小區(qū)向3G重定向比例很高，一定表明該小區(qū)覆蓋范圍內(nèi)存在明顯的覆蓋不足。
CAT5的UE不支持上行64QAM調(diào)制方式。
VoLTE路測(cè)時(shí)的呼叫時(shí)長(zhǎng)設(shè)置要求是90秒。
由于同頻干擾兩個(gè)信號(hào)落在了同一段頻譜上，所以通過(guò)頻譜圖很難發(fā)現(xiàn)問(wèn)題，此時(shí)可通過(guò)門控掃描的方式解決。
頻譜分析儀的最低噪聲電平和最慢掃描時(shí)間是在最小分辨帶寬下得到的。
SecondaryCell（SCC）∶輔小區(qū)，是工作在輔頻帶上的小區(qū)。一旦RRC連接建立，輔小區(qū)就被配置以提供額外的無(wú)線資源。
VoLTE語(yǔ)音質(zhì)量端到端間接影響因素包括（）。