填空題

光學(xué)光刻機(jī)主要有（）等幾種。非光學(xué)光刻機(jī)主要有（）。

答案：接觸式、接近式、投影式和分步重復(fù)光刻機(jī)；電子束光刻機(jī)和X射線光刻機(jī)

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光刻工藝的主要工序有：（）組成。

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快速熱處理設(shè)備（RTP）的主要熱交換機(jī)制是（），常用熱源是（）。RTP的主要優(yōu)點(diǎn)是（）。

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