碳四裂解加熱爐烘爐的目的是（）

“水擊”消除方法根本指導思想是（）

碳四裝置再生過程中需要（）介質進行再生操作。

脫乙烷塔循環(huán)建立時，塔頂冷卻器循環(huán)水開的過大，會出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

碳四裂解裝置加熱反應系統(tǒng)結焦危害是（）

除去儀表問題，脫乙烷塔壓力波動實質是（）被破壞。

若脫乙烷塔操作不好，將碳二帶至丙烯塔，丙烯塔在開車建立循環(huán)過程中會出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

如果解吸塔進料量增大，需要對解吸塔進行（）調整。

對于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調節(jié)冷卻器的（）溫度和調節(jié)回流量的方法來調節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>

液化氣引進塔后，趕氮氣結束，塔底通熱源以后，會發(fā)生塔底液面急速下降，此時這些液態(tài)烴原料到（）去了。