“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

脫乙烷塔循環(huán)建立時，塔頂冷卻器循環(huán)水開的過大，會出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

碳四裝置催化劑再生前需要對待再生反應(yīng)系統(tǒng)做（）

碳四裝置反應(yīng)器原料來自于（）

碳四裝置回流罐頂去低壓調(diào)節(jié)閥是（）

如果解吸塔進料量增大，需要對解吸塔進行（）調(diào)整。

碳四裝置再生溫度超高的因素有（）

氣分裝置地下水罐的冷凝水來自于（）

氣體分餾裝置處理量頻繁變化時，實際是氣體分餾裝置的（）頻繁被打破。

為了防止離心水泵入口發(fā)生汽蝕，葉輪入口處壓力（）汽化壓力。