碳四裝置再生過程中需要（）介質進行再生操作。

氣分裝置地下水罐的冷凝水來自于（）

碳四裂解裝置加熱反應系統(tǒng)結焦危害是（）

生產中允許塔盤有少量泄漏，但正常生產泄漏量不能超過（）

氣體分餾裝置處理量超負荷生產時，操作上注意事項以下哪些是正確的（）

“水擊”消除方法根本指導思想是（）

碳四裝置再生系統(tǒng)再生前必須確定（）是合格的。

碳四裝置反應器反應溫度急劇上升的因素有（）

進萃取裝置原料中異丁烷含量過高有利于提高（）

氣溫升高時，氣體分餾裝置在操作上應（）