氣體分餾裝置處理量頻繁變化時(shí)，實(shí)際是氣體分餾裝置的（）頻繁被打破。

碳四裝置再生溫度超高的因素有（）

氣分裝置地下水罐的冷凝水來(lái)自于（）

碳四裂解裝置加熱反應(yīng)系統(tǒng)結(jié)焦危害是（）

“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

如果解吸塔進(jìn)料量增大，需要對(duì)解吸塔進(jìn)行（）調(diào)整。

進(jìn)萃取裝置原料中異丁烷含量過(guò)高有利于提高（）

對(duì)于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的（）溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來(lái)調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>

碳四裂解加熱爐烘爐的目的是（）

氣體分餾裝置處理量超負(fù)荷生產(chǎn)時(shí)，操作上注意事項(xiàng)以下哪些是正確的（）