A.公開(kāi)招標(biāo)、議標(biāo)
B.公開(kāi)招標(biāo)、邀請(qǐng)招標(biāo)、分階段招標(biāo)
C.分階段招標(biāo)、公開(kāi)招標(biāo)
D.公開(kāi)招標(biāo)、邀請(qǐng)招標(biāo)、議標(biāo)
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A.建設(shè)程序
B.管理權(quán)限
C.控制目標(biāo)
D.資源范圍
A.現(xiàn)場(chǎng)施工管理包括:與業(yè)主的聯(lián)絡(luò)、分包商管理、組織和協(xié)調(diào)項(xiàng)目現(xiàn)場(chǎng)的施工工作
B.施工管理的重點(diǎn)是對(duì)安全、質(zhì)量、進(jìn)度和費(fèi)用的管理和控制
C.工程公司對(duì)施工的管理,包括施工管理和現(xiàn)場(chǎng)施工管理
D.工程公司對(duì)現(xiàn)場(chǎng)施工管理是被授權(quán)的項(xiàng)目部對(duì)現(xiàn)場(chǎng)的施工管理
A.最大
B.出現(xiàn)極值點(diǎn)
C.為負(fù)值
D.為0
A.5~10
B.10~20
C.20~30
D.大于30
A.高于21℃
B.等于21℃
C.低于21℃
D.為50℃
最新試題
設(shè)備設(shè)計(jì)條件單主要包括()。
半剖視圖適合于()機(jī)件的表達(dá)。
點(diǎn)A、B為W面上的重影點(diǎn),且點(diǎn)A在點(diǎn)B之右,其在W面上可寫(xiě)作()。
繪制化工設(shè)備圖應(yīng)遵循的基本原則有()。
臥式設(shè)備應(yīng)采用()支座。
正垂面投影特性是()。
為方便安裝檢修,當(dāng)設(shè)備直徑大于800mm時(shí),應(yīng)設(shè)置()。
相貫線的投影為非圓曲線時(shí),其特殊點(diǎn)可以是()。
化工設(shè)備的殼體壁厚、接管壁厚一般采用()表達(dá)。
側(cè)平面的投影特性是()。