氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

萃取裝置進(jìn)料量增大后，操作上應(yīng)采?。ǎ┐胧?。

碳四裝置反應(yīng)器原料來自于（）

液化氣引進(jìn)塔后，趕氮?dú)饨Y(jié)束，塔底通熱源以后，會(huì)發(fā)生塔底液面急速下降，此時(shí)這些液態(tài)烴原料到（）去了。

生產(chǎn)中允許塔盤有少量泄漏，但正常生產(chǎn)泄漏量不能超過（）

碳四裝置再生過程中需要（）介質(zhì)進(jìn)行再生操作。

若脫乙烷塔操作不好，將碳二帶至丙烯塔，丙烯塔在開車建立循環(huán)過程中會(huì)出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

除去儀表問題，脫乙烷塔壓力波動(dòng)實(shí)質(zhì)是（）被破壞。

物料未退凈會(huì)對(duì)停工產(chǎn)生（）影響。