轉(zhuǎn)化和中低變一起（）循環(huán)升溫。

氨合成塔阻力降應(yīng)控制在100KPa以內(nèi)。

CH4在膜中滲透率大于H2。

換熱式轉(zhuǎn)化爐反應(yīng)所需熱量來自加熱爐和二段爐的高溫氣體。

加熱爐爐膛置換（）含量〈0.5%時(shí)合格。

冷換設(shè)備投用時(shí)先通高溫介質(zhì)再通低溫介質(zhì)。

放硫結(jié)束的標(biāo)志是出口氣體中H2S〈（）ppm。

中低變可進(jìn)行單獨(dú)氮?dú)庋h(huán)升溫。

合成塔阻力逐漸增大的原因：觸媒結(jié)塊、（）、入塔氣帶液、帶油。

合成氨轉(zhuǎn)化的助燃劑為（）。