單項(xiàng)選擇題
低變催化劑還原速度與H2分壓的（）次方成正比。
A.1
B.2
C.3
D.1.5
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1.單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原載氣多數(shù)用（）。
A.天然氣
B.水蒸汽
C.N2
D.H2
2.單項(xiàng)選擇題氨合成催化劑所用還原氣體是（）。
A.水蒸汽
B.氫氣
C.二氧化碳
D.甲烷
3.單項(xiàng)選擇題在氨合成催化劑還原過(guò)程中，提高還原壓力是能（）同平面溫差。
A.縮小
B.擴(kuò)大
C.不變
D.縮小或擴(kuò)大
4.單項(xiàng)選擇題工業(yè)上氨合成催化劑還原可分為（）個(gè)期間。
A.4
B.3
C.5
D.2
5.單項(xiàng)選擇題一般適用徑向和軸徑向合成塔的催化劑粒度是（）。
A.1.5～3.0
B.3.0～4.5
C.4.5～6.0
D.6.0～7.5
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