曬版過程基本上是一個物理加工過程，它涉及到一定的光物理知識、表面物理性能等物理基礎知識。

陽圖型PS版防止除臟曝光過度，可減少二次曝光時間。

由于印版經(jīng)常性的和油墨、潤色液及一些化學溶劑接觸，所以要求其具有較強的耐抗性能。但是在為了實現(xiàn)印刷中更容易和化學溶劑作用，印版的化學穩(wěn)定性一般比較差。

對圖層蒙版進行濾鏡操作，和對圖層進行濾鏡操作，其效果是一樣的。

在歷史記錄控制面板中，刪除歷史記錄與撤銷歷史記錄是相同的，歷史記錄被刪除之后也可以恢復。

調(diào)整圖像時，用色階調(diào)整和自動色階調(diào)整是一樣的。

燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當光源一定時，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。

用修復工具復制圖像和使用圖案工具復制圖像產(chǎn)生的效果一樣。

感光版的涂層越厚，它的反射能力越強，那么曬版時所需的曝光量越小，光滲量和光散射量相應減少，將會造成圖文殘缺或空白部位上臟等故障。

曬版時，使用的感光物盡管是光敏物，在光照下能發(fā)生化學反應，有時卻能在亮室下而不必在暗室下操作。