燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。

翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱為雙面曬版機(jī)，它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時交替運(yùn)行，工作效率高，封閉遮光性能好。

版基是印版圖文的載體，起著支撐印刷圖文的作用，而我們在平版曬版中所使用的PS版屬于金屬版基。

在歷史記錄控制面板中，刪除歷史記錄與撤銷歷史記錄是相同的，歷史記錄被刪除之后也可以恢復(fù)。

平版曬版中，主要應(yīng)用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。

由于印版經(jīng)常性的和油墨、潤色液及一些化學(xué)溶劑接觸，所以要求其具有較強(qiáng)的耐抗性能。但是在為了實(shí)現(xiàn)印刷中更容易和化學(xué)溶劑作用，印版的化學(xué)穩(wěn)定性一般比較差。

在曬版過程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險和不必要的事故。

印版應(yīng)具有良好的表面平整性，特別是在有效工作面內(nèi)更應(yīng)具有如此特征。

曬版時，使用的感光物盡管是光敏物，在光照下能發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，有時卻能在亮室下而不必在暗室下操作。

印版空白部位如果有一小塊一小塊輕微吸墨，是曝光過量造成的。