患者,男,76歲。下頜缺失,余牙正常,設計鑄造支架式義齒。
為了減輕44所受的扭力,可以采取以下措施,除了()
A.取功能性印模
B.用大連接體或基托連接
C.設計近中支托
D.減小游離端基托
E.人工牙減數(shù)、減輕
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患者,男,76歲。下頜缺失,余牙正常,設計鑄造支架式義齒。
假如口底至舌側(cè)齦緣的距離為6mm,大連接體可采用()
A.舌桿
B.奎續(xù)卡環(huán)
C.舌桿與連續(xù)卡環(huán)
D.舌板
E.舌板與連續(xù)卡環(huán)
患者,男,76歲。下頜缺失,余牙正常,設計鑄造支架式義齒。
如患者舌側(cè)前部牙槽骨為斜坡型,口底深,連接體應設計為()
A.舌板,輕輕接觸黏膜
B.舌板,離開黏膜0.3~0.4mm
C.舌桿,輕輕接觸黏膜
D.舌桿,離開黏膜0.3~0.4mm
E.舌板,離開黏膜0.5mm
患者,男,76歲。下頜缺失,余牙正常,設計鑄造支架式義齒。
制取印模應采用()
A.壓力印模
B.解剖式印模
C.二次印模
D.終印模
E.彈性印模
患者,男,76歲。下頜缺失,余牙正常,設計鑄造支架式義齒。
RPI卡環(huán)的I桿應止于()
A.舌面稍偏近中
B.舌面稍偏遠中
C.遠中面
D.頰面稍偏遠中
E.頰面稍偏近中
患者,男,76歲。下頜缺失,余牙正常,設計鑄造支架式義齒。
如果為RPI卡環(huán)組設計,基牙預備時應備出()
A.近、遠中支托凹
B.近中支托凹、遠中導平面
C.近中支托凹、舌側(cè)導平面
D.近中支托凹、頰側(cè)導平面
E.遠中支托凹、遠中導平面
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