冷換設(shè)備投用時先通高溫介質(zhì)再通低溫介質(zhì)。

低變爐開始還原時無需進(jìn)行試配氫。

合成塔阻力逐漸增大的原因：觸媒結(jié)塊、（）、入塔氣帶液、帶油。

膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴(kuò)散系數(shù)不同，來達(dá)到分離。

在壓縮機(jī)運(yùn)行過程中活塞桿的摩擦部位溫度應(yīng)小于100℃

氮?dú)庵脫Q時必須單點(diǎn)排放，反復(fù)進(jìn)行幾次，直到置換合格。

加氫槽的作用是將有機(jī)硫轉(zhuǎn)化為無機(jī)硫。

調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)化氣廢鍋旁路管線可以控制中變爐入口溫度。

正常操作時，只要床溫正常，氧含量超標(biāo)也不用調(diào)整。

當(dāng)F.T尾氣中不飽和烴含量≤0.4%時，可以通過提高水碳比來防止觸媒析碳。